SETO 1.67 Fotoxrom Lens SHMC
Spesifikasiya
| 1.67 fotoxrom shmc optik lens | |
| Model: | 1.67 optik lens |
| Mənşə yeri: | Jiangsu, Çin |
| Brend: | SETO |
| Linzaların materialı: | qatran |
| Linzaların Rəngi: | Təmiz |
| Kırılma indeksi: | 1.67 |
| Diametr: | 75/70/65 mm |
| Funksiya: | fotoxrom |
| Abbe Dəyəri: | 32 |
| Xüsusi çəkisi: | 1.35 |
| Kaplama seçimi: | HMC/SHMC |
| Kaplama rəngi | Yaşıl |
| Güc diapazonu: | Sph:0,00 ~-12,00;+0,25 ~ +6,00;Silindir: 0,00 ~ -4,00 |
Məhsul Xüsusiyyətləri
1) Spin örtük nədir?
Spin örtüyü düz substratlara vahid nazik filmləri yerləşdirmək üçün istifadə edilən bir prosedurdur.Adətən aşağı sürətlə fırlanan və ya heç dönməyən substratın mərkəzinə az miqdarda örtük materialı tətbiq olunur.Daha sonra örtük materialını mərkəzdənqaçma qüvvəsi ilə yaymaq üçün substrat 10.000 rpm-ə qədər sürətlə fırlanır.Spin örtük üçün istifadə olunan maşın spin coater və ya sadəcə spinner adlanır.
Maye substratın kənarlarından fırlanarkən, filmin istənilən qalınlığına çatana qədər fırlanma davam etdirilir.Tətbiq edilən həlledici adətən uçucudur və eyni zamanda buxarlanır.Fırlanmanın bucaq sürəti nə qədər yüksək olarsa, film daha incə olar.Filmin qalınlığı həmçinin məhlulun özlülüyündən və konsentrasiyasından və həlledicidən asılıdır.Spin örtüyünün qabaqcıl nəzəri təhlili Emslie və başqaları tərəfindən aparıldı və bir çox sonrakı müəlliflər (o cümlədən, spin örtüyünün yayılma sürətini tədqiq edən Wilson və başqaları; və Danglad-Flores və s. çökdürülmüş film qalınlığını proqnozlaşdırmaq üçün universal təsvir).
Spin örtüyü sol-gel prekursorlarından istifadə etməklə şüşə və ya monokristal substratlar üzərində funksional oksid təbəqələrinin mikrofabrikasında geniş istifadə olunur, burada nanoölçülü qalınlığa malik vahid nazik filmlər yaratmaq üçün istifadə edilə bilər.[6]Təxminən 1 mikrometr qalınlığında fotorezist təbəqələrinin yerləşdirilməsi üçün fotolitoqrafiyada intensiv şəkildə istifadə olunur.Fotorezist adətən saniyədə 20-80 dövrə ilə 30-60 saniyə ərzində fırlanır.Polimerlərdən hazırlanmış planar fotonik strukturların istehsalı üçün də geniş istifadə olunur.
İncə filmlərin fırlanmasının bir üstünlüyü film qalınlığının vahidliyidir.Öz-özünə düzəldilmə sayəsində qalınlıqlar 1% -dən çox dəyişmir.Bununla belə, polimerlərin və fotorezistlərin daha qalın təbəqələrinin spin örtülməsi, planarizasiyası fiziki məhdudiyyətlərə malik olan nisbətən böyük kənar muncuqlarla nəticələnə bilər.
2.Fotoxrom linzaların təsnifatı və prinsipi
Fotoxrom linzalar linzaların rəngsizləşmə hissələrinə görə fotoxrom linzalara ("əsas dəyişikliyi" kimi istinad edilir) və membran qatının rəngsizləşməsinə ("film dəyişikliyi" kimi istinad edilir) iki növə bölünür.
Substrat fotoxrom lensinə linza substratına gümüş halid kimyəvi maddə əlavə olunur.Gümüş halidin ion reaksiyası ilə, güclü işıq stimullaşdırılması altında lensi rəngləmək üçün gümüşə və halidə parçalanır.İşıq zəiflədikdən sonra gümüş halidə birləşdirilir ki, rəng daha açıq olur.Bu texnika tez-tez şüşə fotokroimc lens üçün istifadə olunur.
Film dəyişdirmə lensi linzaların örtülməsi prosesində xüsusi olaraq müalicə olunur.Məsələn, spiropiran birləşmələri lensin səthində yüksək sürətli spin örtük üçün istifadə olunur.İşığın və ultrabənövşəyi işığın intensivliyinə görə, işığın keçməsi və ya bloklanması effektinə nail olmaq üçün molekulyar quruluşun özü açıla və söndürülə bilər.
3. Kaplama seçimi?
1.67 fotoxrom lens kimi super hidrofobik örtük onun üçün yeganə örtük seçimidir.
Super hidrofobik örtük, linzaları suya davamlı, antistatik, sürüşməyə və yağa davamlı edə bilər.
Ümumiyyətlə, super hidrofobik örtük 6-12 ay mövcud ola bilər.
Sertifikatlaşdırma
Fabrikimiz
